| 摘要 |
一种用于光刻胶的防反射涂料组合物和利用这种涂料组合物在基片上制作图像的方法，此涂料的折射指数为自大于约１．２０至约１．４０，它能以单个四分之一波长厚度使用，并能用下层光刻胶的显影剂来除去；此涂料组合物包含含有下列单元的共聚物：$$$式中Ｘ为CO<SUB>2</SUB>L,SO<SUB>3</SUB>L,)H,CO(OC<SUB>2</SUB>H<SUB>4</SUB>)<SUB>X</SUB>OH,CONHC(CH<SUB>3</SUB>)<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>#O&SO<SUB>3</SUB>L,PO<SUB>3</SUB>L<SUB>2</SUB>或CONH<SUB>2</SUB>,式中L=H,Ⅰ族或Ⅱ族阳离子或NH<SUB>4</SUB><SUP>+</SUP>,而X=0—10,$$$式中Y是氟或含氟脂族有机取代基,优选选自$COO(CH<SUB>2</SUB>)<SUB>X</SUB>(CF<SUB>2</SUB>)<SUB>n</SUB>CF<SUB>3</SUB>,$SO<SUB>2</SUB>O(CH<SUB>2</SUB>)<SUB>X</SUB>(CF<SUB>2</SUB>)<SUB>n</SUB>CF<SUB>3</SUB>$SO<SUB>2</SUB>(OC<SUB>2</SUB>H<SUB>4</SUB>)<SUB>X</SUB>O(CH<SUB>2</SUB>)<SUB>X</SUB>(DF<SUB>2</SUB>)<SUB>n</SUB>CF<SUB>3</SUB>,$CO(OC<SUB>2</SUB>H<SUB>4</SUB>)<SUB>X</SUB>O(CH<SUB>2</SUB>)<SUB>X</SUB>(CF<SUB>2</SUB>)<SUB>n</SUB>CF<SUB>3</SUB>或$CO(OCH-CH<SUB>2</SUB>)<SUB>X</SUB>O(CH<SUB>2</SUB>)<SUB>X</SUB>(CF<SUB>2</SUB>)<SUB>n</SUB>CF<SUB>3</SUB>$_____CH<SUB>2</SUB>Cl$其中脂族链可以是支化的或不支化的;$式中R=H,卤素,CF<SUB>3</SUB>,C<SUB>1</SUB>-C<SUB>8</SUB>烷基或CN;n=0—14;及X=0—10 |
