| 发明名称 |
Method for etching oxide during the fabrication of an integrated circuit |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0851472(A3) |
申请公布日期 |
1998.12.16 |
| 申请号 |
EP19970310519 |
申请日期 |
1997.12.23 |
| 申请人 |
TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED |
发明人 |
YANG, MING;LI, LEI |
| 分类号 |
C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/311 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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