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发明名称 PHOTORESIST COMPOSITION
摘要
申请公布号 KR0163589(B1) 申请公布日期 1998.12.15
申请号 KR19900008961 申请日期 1990.06.15
申请人 CIBA SC HOLDING AG 发明人 KURT, MEIER;LUNN, ROBERT JAMES;KROEHNKE, CHRISTOPH;EUGSTER, GIULIANO
分类号 C08F290/06;C08G18/67;C09D4/00;C09D4/06;C09D5/00;C09D11/10;C09D175/00;C09D175/04;G03F1/10;G03F7/027;G03F7/028;G03F7/033;H01L21/027;H01L21/30;H05K3/06;(IPC1-7):G03F7/027 主分类号 C08F290/06
代理机构 代理人
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