发明名称 适用于抛光二氧化矽、矽酸盐及氮化矽之组成物
摘要 本案提供一种适用于抛光二氧化矽(SiO2)、矽酸盐及氮化矽之组成物,其包括一由次微米大小二氧化矽粒子与一可溶性无机盐或与多种可溶性无机盐之组合所构成的水性浆液,总溶液浓度系低于浆液之临界凝结浓度,其中该浆液之pH值系藉由添加一可溶性铵或多种可溶性铵之混合物而调整至约9至10之范围内。任择地,本发明之组成物亦可包含一种多羟基醇。
申请公布号 TW347410 申请公布日期 1998.12.11
申请号 TW085104067 申请日期 1996.04.08
申请人 罗戴尔股份有限公司 发明人 大卫.卡瑟本;王钧方;李M.库克
分类号 C09G1/00;C09G1/02;C09G1/16 主分类号 C09G1/00
代理机构 代理人 康伟言 台北巿南京东路三段二四八号七楼;恽轶群 台北巿松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种适用于抛光二氧化矽、矽酸盐及氮化矽之 组成物, 其包括一由次微米大小二氧化矽(SiO2)粒子与一可 溶性无 机盐或与多种可溶性无机盐之组合所构成的水性 浆液,总 溶液浓度系低于该浆液之临界凝结浓度,其中该浆 液之pH 値系藉由添加一可溶性铵或多种可溶性铵之混合 物而调整 至9至10之范围内。2.如申请专利范围第1项之组成 物,其中该可溶性无机盐 或可溶性无机盐之组合系以一为0.01重量%至1.0重 量%之 浓度存在。3.如申请专利范围第2项之组成物,其中 该可溶性无机盐 或可溶性无机盐之组合含有选自于由NH4+、Cs+及Ba2 +所 构之群组中的阳离子。4.如申请专利范围第1.2或3 项之组成物,其更包含一种 多羟基醇。5.如申请专利范围第4项之组成物,其中 该多羟基醇为1,2 -丙二醇。6.如申请专利范围第3项之组成物,其包 括0.05重量%之硝 酸钡及13重量%之烟燻氧化矽,其中该pH値系藉由添 加单 乙醇胺而调整至9.6。7.如申请专利范围第3项之组 成物,其包括0.3重量%之硝 酸铵、0.05重量%之硝酸钡及13重量%之烟燻氧化矽, 其中 该pH値系藉由添加单乙醇胺而调整至9.6。8.如申请 专利范围第3项之组成物,其包括0.3重量%之硝 酸铵、0.5重量%之硝酸铯及13重量%之烟燻氧化矽, 其中 该pH値系藉由添加单乙醇胺而调整至9.6。9.如申请 专利范围第3项之组成物,其包括0.95重量%之硝 酸铯、500ppm之1,2-丙二醇及13重量%之烟燻氧化矽, 其 中该pH値系藉由添加单乙醇胺而调整至9.6。
地址 美国