发明名称 包含氧–位障层且第一电极由非贵重金属构成之电容器
摘要 一种电容器,其系以高ε之介电质或铁电层作为电容器之介电质,第一电极基本上由非贵重金属之导电性材料所构成,在电容器介电质和第一电极之间配置一层位障层以抑制氧气之扩散。以此种方式,则知之电极材料(例如多晶矽或铝)可与高ε之介电质或铁电质一同进行积体化过程。
申请公布号 TW347541 申请公布日期 1998.12.11
申请号 TW086114191 申请日期 1997.09.30
申请人 西门斯股份有限公司 发明人 卡罗斯马什–艾斯皮裘;瓦特哈特纳;冈什琴德勒
分类号 H01G4/10 主分类号 H01G4/10
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种在积体半导体电路中之电容器,其特征为:-具有第一电极(7),其基本上由非贵重金属之导电性材料所构成,-具有第二电极(10),-具有电容器介电质(9),介电质(9)将第一(7)和第二电极(10)互相绝缘且由高之介电质或铁电质所构成,-具有位障层以降低氧气之扩散,位障层配置于第一电极(7)上且覆盖介于第一电极(7)和电容器介电质(9)之间的整个界面。2.如申请专利范围第1项之电容器,其中位障层(8)是一种电性绝缘层。3.如申请专利范围第1或第2项之电容器,其中位障层(8)是由氮化矽或氧化矽所构成。4.如申请专利范围第1项之电容器,其中第一电极(7)基本上由多晶矽,可导电之氮化物,钨或矽化物所构成。5.如申请专利范围第1或第2项之电容器,其中第一电极(7)基本上由矽化钛所构成且位障层(8)基本上由氧化钛所构成。图式简单说明:第一图显示具有本发明之电容器的积体半导体电路之记忆体单元以作为实施例。
地址 德国