| 发明名称 |
DEPOSITING CHAMBER AND METHOD FOR FILM WITH LOW DIELECTRIC CONSTANT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10321613(A) |
申请公布日期 |
1998.12.04 |
| 申请号 |
JP19980122227 |
申请日期 |
1998.05.01 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
LI SHIJIAN;WANG YAXIN;REDEKER FRED;ISHIKAWA TETSUYA;COLLINS ALAN W |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C14/34;C23C16/40;C23C16/455;H01L21/205;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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