发明名称 PLASMA TREATMENT SYSTEM
摘要
申请公布号 JPH10321595(A) 申请公布日期 1998.12.04
申请号 JP19970144563 申请日期 1997.05.20
申请人 TOKYO ELECTRON LTD 发明人 KOSHIMIZU CHIEN
分类号 H01L21/302;C23C14/22;C23C16/44;C23C16/455;H01J37/32;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
地址