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发明名称 Verfahren zur Herstellung dreidimensionaler Tiefenstrukturen in Siliziumsubstraten
摘要
申请公布号 DE4416057(C2) 申请公布日期 1998.12.03
申请号 DE19944416057 申请日期 1994.05.02
申请人 HARTMANN & BRAUN GMBH & CO. KG, 65760 ESCHBORN, DE 发明人 OBERMEIER, ERNST, PROF. DR.-ING., 14050 BERLIN, DE;SCHLICHTING, VOLKER, DIPL.-PHYS., 13353 BERLIN, DE;DIEPOLD, THOMAS, 13409 BERLIN, DE;HEIN, STEFAN, 13409 BERLIN, DE
分类号 H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/308 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
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