发明名称 | 具有邻近驱动晶体管源极小区域的静态随机存取存储器 | ||
摘要 | 在一个包括两个交叉耦合驱动MOS晶体管和两个连接到所述驱动MOS晶体管的转移MOS晶体管的静态随机存储器单元中,一组驱动MOS晶体管和转移MOS晶体管的栅极形成在一个半导体基片上以及一组晶体管的源极/漏极杂质扩散区域(8)形成在该半导体基片内。一组与半导体基片相同导电型的小区域(5)形成在该半导体基片内,每个小区域邻近驱动晶体管之一的源极和栅极下面。该小区域的杂质浓度比半导体基片的杂质浓度高。 | ||
申请公布号 | CN1200558A | 申请公布日期 | 1998.12.02 |
申请号 | CN98101733.9 | 申请日期 | 1998.04.27 |
申请人 | 日本电气株式会社 | 发明人 | 野田研二 |
分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 中科专利代理有限责任公司 | 代理人 | 刘文意 |
主权项 | 1.一个包括两个交叉耦合驱动MOS晶体管(Qd1,Qd2)和两个连接到所述驱动MOS晶体管的转移MOS晶体管(Qt1,Qt2)的静态随机存取存储器单元,其特征在于它包括:一个第一导电型的半导体基片(1);一组所述驱动MOS晶体管和转移MOS晶体管的栅极(3a,3b),形成上述半导体基片;一组相对于所述第一导电型的第二导电型的第一杂质扩散区(8),形成在所述基片内,每个所述第一杂质扩散区形成所述驱动MOS晶体管和转移MOS晶体管的源极和漏极之一;一组形成在所述半导体基片内的所述第一导电型的小区域(5),所述每个小区域邻近于驱动MOS晶体管的源极及在说的驱动晶体管之一的栅极之下;一个所述小区域的杂质浓度大于所述半导体基片的杂质浓度。 | ||
地址 | 日本国东京都 |