| 发明名称 |
METHOD FOR REMOVING PHOTORESIST OF WAFER FLAT ZONE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR0150673(B1) |
申请公布日期 |
1998.12.01 |
| 申请号 |
KR19940034008 |
申请日期 |
1994.12.13 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS IND.CO.,LTD |
发明人 |
CHOE, HYUN-MOOK |
| 分类号 |
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
