| 发明名称 |
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM FOR WRITING PATTERN ON THE WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR0160167(B1) |
申请公布日期 |
1998.12.01 |
| 申请号 |
KR19940036684 |
申请日期 |
1994.12.22 |
| 申请人 |
IBM CORP. |
发明人 |
PFEIFFER, HANS CHRISTIAN;STICKEL, WERNER |
| 分类号 |
G03F7/20;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01J37/30 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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