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发明名称 MAGNETRON PLASMA PROCESSING SYSTEM
摘要
申请公布号 KR0149392(B1) 申请公布日期 1998.12.01
申请号 KR19950004077 申请日期 1995.02.28
申请人 TOKYO ELECTRON CO.,LTD 发明人 HASEKAWA, MAGOTTO;SITO, ZEYOSI;HIGUCHI, HUMIHIKO;AMANO, HIDEAGI;NITO, KASNORI;TOSAWA, TAKASI;NAGAGOMA, TASYA;ITO, GAGI;SZEKI, KOUJI
分类号 C23C14/35;C23C16/50;H01J37/32;H01L21/00;(IPC1-7):H01L21/302 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
主权项
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