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发明名称 METHOD OF SILICON FORMATION DEVICE
摘要
申请公布号 KR0151029(B1) 申请公布日期 1998.12.01
申请号 KR19950008509 申请日期 1995.04.12
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO.,LTD 发明人 NAM, SEUNG-HEE;KIM, BYUNG-HEE;MOON, JONG
分类号 H01L21/28;(IPC1-7):H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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