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经营范围
发明名称
LOW PRESSURE CHEMICAL DEPOSITION SYSTEM
摘要
申请公布号
KR0128230(Y1)
申请公布日期
1998.12.01
申请号
KR19940039576U
申请日期
1994.12.31
申请人
LG SEMICONDUCTOR CO.,LTD
发明人
SONG, INN-JUNG
分类号
H01L21/18;(IPC1-7):H01L21/18
主分类号
H01L21/18
代理机构
代理人
主权项
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