发明名称 INDIRECT TEMPERATURE-MEASUREMENT OF FILMS FORMED ON SEMICONDUCTOR WAFERS
摘要
申请公布号 KR0151150(B1) 申请公布日期 1998.12.01
申请号 KR19900004397 申请日期 1990.03.31
申请人 TOKUSAI GLJUTSU KAIHATSU KK;TOKYO ELECTRON KYUSHU LTD 发明人 SHIRAKAWA, EIICHI;NOMURA, MASAFUMI;NATSUMURA, KIMIHARU
分类号 G01J5/60;H01L21/027;(IPC1-7):G01J5/60 主分类号 G01J5/60
代理机构 代理人
主权项
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