发明名称 Lithographisches Verfahren
摘要
申请公布号 DE69321627(D1) 申请公布日期 1998.11.26
申请号 DE19936021627 申请日期 1993.02.09
申请人 TADAHIRO OHMI, SENDAI, MIYAGI, JP;CANON K.K., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 OHMI, TADAHIRO, SENDAI-SHI, MIYAGI-KEN, JP;SHIMADA, HISAYUKI, C/O DEPARTMENT OF ELECTRONICS, ARAMAKI, AOBA-KU, SENDAI-SHI, MIYAGI-KEN, JP;SHIMOMURA, SHIGEKI, C/O DEPARTMENT OF ELCTRONICS, ARAMAKI, AOBA-KU, SENDAI-SHI, MIYAGI-KEN, JP;SUZUKI, AKIYOSHI, C/O CANON KABUSHIKI KAISH, OHTA-KU, TOKYO, JP;MIYAWAKI, MAMORU, C/O CANON KABUSHIKI KAISHA, OHTA-KU, TOKYO, JP;NOGUCHI, MIYOKO, C/O CANON KABUSHIKI KAISHA, OHTA-KU, TOKYO, JP
分类号 G03F7/20;G03F7/32;(IPC1-7):G03F7/32 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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