摘要 |
<p>Die Erfindung beschreibt ein Meß- und Prüfverfahren sowie zwei Testvorrichtungen für EMV-Messungen zur elektromagnetischen Feldab- und -einstrahlung bei elektronischen und elektrischen Geräten und Systemen. Neben EMV-Messungen und Prüfungen, die mit anderen genormten Meßverfahren korreliert werden können, sind zusätzlich hochpräzise Feld-Kalibrierungen auf Basis des erfindungsgemäßen Verfahrens sowie der Vorrichtung durchführbar. Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß ein elektromagnetisches Feld mit maximaler Energiekonzentration zwischen den Innenleitern geführt und dabei ein Stromfluß von den Innenleitern über den Schirm weitgehend unterdrückt wird und die Polarisation des TEM-Wellenleiters einstellbar ist. Die erste Vorrichtung basiert darauf, daß mindestens zwei sich gegenüberliegende aufweitend gestaltete Innenleiter (6) an ihrer Spitze (6a) symmetrisch über einen Balun (7) gespeist werden und die Innenleiter (6) über Widerstände (1) mit einer ersten Rückwand (3a) und/oder einer zweiten Rückwand (3b) elektrisch leitend verbunden sind. Eine zweite erfindungsgemäße Vorrichtung weist mindestens vier aufweitend gestaltete Innenleiter auf, die derart angeordnet sind, daß durch paarweise symmetrische Einspeisung an den Spitzen der Innenleiter Paare gebildet werden, welche an ihrem Ende an einer absorberbelegten leitfähigen Rückwand einzeln impedanzrichtig abgeschlossen sind.</p> |