| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung thermooptischer Schaltelemente, bei denen in ein Substrat mit bestimmtem Brechungsindex Vertiefungen eingebracht werden, die Vertiefungen zur Erzeugung von Lichtwellenleiterstrukturen mit einem Material mit anderem Brechungsindex aufgefüllt werden, und den Lichtwellenleitern thermische Einrichtungen zur Beeinflussung einer Temperatur der Lichtwellenleiter zugeordnet werden. Es ist vorgesehen, daß die Lichtwellenleiter-Vertiefungen (22) mittels einer Einrichtung (14) in dem Substrat (12) erzeugt werden, wobei gleichzeitig mit den Lichtwellenleiter-Verbindungen (22) Hilfsvertiefungen (24) zur Einstellung eines definierten Abstandes (a) der Lichtwellenleiter (32) von einer thermischen Einrichtung (10) angelegt werden.</p> |
