| 发明名称 |
Process for continuous annealing of metal substrates |
| 摘要 |
Procédé de recuit d'un substrat métallique au défilé, notamment d'une tôle d'acier, le recuit étant réalisé au moyen de décharges par plasma. |
| 申请公布号 |
EP0879897(A1) |
申请公布日期 |
1998.11.25 |
| 申请号 |
EP19980870028 |
申请日期 |
1998.02.11 |
| 申请人 |
RECHERCHE ET DEVELOPPEMENT DU GROUPE COCKERILL SAMBRE, EN ABREGE: RD-CS |
发明人 |
VANDEN BRANDE, PIERRE;WEYMEERSCH, ALAIN;HARLET, PHILIPPE |
| 分类号 |
C21D1/09;C21D1/26;C21D1/38;C21D1/74;C21D1/773;C21D9/56;C23C14/02;C23C14/56;C23C16/02;C23C16/54 |
主分类号 |
C21D1/09 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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