发明名称 Plasmabearbeitungsmethode und Vorrichtung zum Aufbringen von Dünnschichten
摘要
申请公布号 DE68928829(D1) 申请公布日期 1998.11.19
申请号 DE19896028829 申请日期 1989.02.06
申请人 SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD., ATSUGI, KANAGAWA, JP 发明人 YAMAZAKI, SHUNPEI, SETAGAYA-KU TOKYO, JP;TSUCHIYA, MITSUNORI, ATSUGI-SHI KANAGAWA-KEN, JP;KAWANO, ATSUSHI, ATSUGI-SHI KANAGAWA-KEN, JP;IMATOU, SHINJI, ATSUGI-SHI KANAGAWA-KEN, JP;NAKASHITA, KAZUHISA, ATSUGI-SHI KANAGAWA-KEN, JP;HAMATANI, TOSHIJI, ATSUGI-SHI KANAGAWA-KEN, JP;INUSHIMA, TAKASHI, ATSUGI-SHI KANAGAWA-KEN, JP;ITOU, KENJI, ZAMA-SHI KANAGAWA-KEN, JP
分类号 C23C16/517;H01J37/32;H01J37/34;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 C23C16/517
代理机构 代理人
主权项
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