| 发明名称 |
FORMATION METHOD FOR INTER-ELEMENT SEPARATION AREA |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10308390(A) |
申请公布日期 |
1998.11.17 |
| 申请号 |
JP19970118112 |
申请日期 |
1997.05.08 |
| 申请人 |
MITSUBISHI ELECTRIC CORP;RYODEN SEMICONDUCTOR SYST ENG KK |
发明人 |
TAKI HIROAKI |
| 分类号 |
H01L21/316;H01L21/76;(IPC1-7):H01L21/316 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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