发明名称 CLEANING OF WAFER AND WAFER CLEANING DEVICE
摘要
申请公布号 JPH10308376(A) 申请公布日期 1998.11.17
申请号 JP19970127901 申请日期 1997.04.30
申请人 MITSUBISHI MATERIALS SHILICON CORP 发明人 HORI KENJI
分类号 H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
地址