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经营范围
发明名称
CLEANING OF WAFER AND WAFER CLEANING DEVICE
摘要
申请公布号
JPH10308376(A)
申请公布日期
1998.11.17
申请号
JP19970127901
申请日期
1997.04.30
申请人
MITSUBISHI MATERIALS SHILICON CORP
发明人
HORI KENJI
分类号
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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