| 发明名称 |
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR THIN FILM OF TIN OXIDE FOR THE GAS SENSOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR0149200(B1) |
申请公布日期 |
1998.11.16 |
| 申请号 |
KR19940040294 |
申请日期 |
1994.12.31 |
| 申请人 |
POSCO;RIST |
发明人 |
SHIN, BYUNG-CHOL;LEE, SANG-WAN |
| 分类号 |
C23D1/00;(IPC1-7):C23D1/00 |
主分类号 |
C23D1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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