发明名称 |
Improved inductively coupled plasma source |
摘要 |
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申请公布号 |
SG54576(A1) |
申请公布日期 |
1998.11.16 |
申请号 |
SG19970003672 |
申请日期 |
1997.10.06 |
申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
YAO GONGDA;HOFMANN RALF;TEPMAN AVI;GOPALRAJA PRABURAM;EDELSTEIN SERGIO;SUBRAMANI MANI |
分类号 |
C23C14/34;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/285;(IPC1-7):H01L21/203 |
主分类号 |
C23C14/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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