发明名称 Improved inductively coupled plasma source
摘要
申请公布号 SG54576(A1) 申请公布日期 1998.11.16
申请号 SG19970003672 申请日期 1997.10.06
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 YAO GONGDA;HOFMANN RALF;TEPMAN AVI;GOPALRAJA PRABURAM;EDELSTEIN SERGIO;SUBRAMANI MANI
分类号 C23C14/34;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/285;(IPC1-7):H01L21/203 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
地址