Verfahren zur Herstellung von Photolackmustern,申请号DE1990632464T-传众专利搜索

发明名称	Verfahren zur Herstellung von Photolackmustern
摘要
申请公布号	DE69032464(T2)	申请公布日期	1998.11.12
申请号	DE1990632464T	申请日期	1990.10.19
申请人	FUJITSU LTD., KAWASAKI, KANAGAWA, JP	发明人	TAKECHI, SATOSHI, MACHIDA-SHI, KANAGAWA 211, JP;NAKAMURA, YUKO, KAWASAKI-SHI, KANAGAWA 211, JP;KOTACHI, AKIKO, YOKOHAMA-SHI, KANAGAWA 223, JP
分类号	G03F7/039;G03F7/32;(IPC1-7):G03F7/32	主分类号	G03F7/039
代理机构		代理人
主权项
地址