| 主权项 |
1.一种自我润滑功能滑动构件,其特征为于溶融金属、氧化环境、氮化还原性气体环境或固相反应环境中所使用,在滑动时经由气相,液相,固相之至少一种反应以生成含有自我润滑性化合物之产物母体。2.一种自我润滑功能滑动构件,其系浸渍于含有Zn,Al中一种以上之熔融金属所使用之滑动构件,其特征为在滑动面之至少一部份存在有金属粒子分散陶瓷基复合材料,而在滑动时,于滑动边界形成熔融金属之流体膜。3.一种自我润滑功能滑动构件,其特征为在含有Zn,Al中一种以上之熔融金属中使用,使用Ti,Zr,Nb,V,Ta,Cr之硼化物或碳化物之一种以上作为产物母体,而在滑动时于滑动界面表面发生反应,而做为自我润滑性化合物,可生成熔融金属之氧化物与Ti,Zr,Nb,V,Ta,Cr之氧化物之一种以上之复氧化物。4.一种熔融金属中轴承,系将申请专利范围第2或3项之熔融金属中滑动构件使用于滑动面。5.一种熔融金属电镀装置,其特征为,在含有Zn,Al中一种以上之熔融金属中使用,使用Ti,Zr,Nb,V,Ta,Cr之硼化物或碳化物之一种以上作为产物母体,而在滑动时,于滑动界面表面发生反应,而做为自我润滑性化合物,可生成熔融金属之氧化物与Ti,Zr,Nb,V,Ta,Cr之氧化物之一种以上之复氧化物之自我润滑动能滑动构件,使用于熔融金属中辊轮轴承之滑动部。6.一种自我润滑功能滑动构件,其特征为在氧化环境中使用,而做为产物母体使用Pb,Co,Zn之卤化物,Pb,Zn,Sn之硫化物,硒化物,碲化物,Mo之硼化物,碳化物,矽化物之一种以上,在滑动时于滑动表面发生氧化反应,而做为自我润滑性化合物可生成PbO,MoO3,ZnO,SnO之一种以上。7.一种自我润滑功能滑动构件,其特征为使用在氮化还原气环境中,做为产物母体使用硼,氧化硼,硼砂,碳化硼之一种以上,而在滑动时发生氮化还原反应,做为自我润滑性化合物可生成h-BN。8.一种自我润滑功能滑动构件,其特征为做为产物母体有钨,钼,铌金属之一种以上与硫磺,硒,碲元素之一种以上含有滑动构件中,在滑动表面之滑动时藉由此等之固相反应,成为自我润滑性化合物可生成钨,钼,铌之硫黄,硒,碲化物之一种以上。9.如申请专利范围第1,2,3,6,7或8项之任一项之自我润滑功能滑动构件,其中,该自我润滑性化合物为在滑动面以面积率计算生成5%以上。10.如申请专利范围第1,2,3,6,7或8项之一项之自我润滑功能滑动构件,其中,上述产物母体为至少在滑动构件表面层以面积率计算存在有5%以上。11.一种自我润滑功能滑动构件之制法,其特征为具有在滑动时,经由气相,液相,固相之一种反应将可自我生成自我润滑性化合物之产物母体掺混于陶瓷,金属,高分子化合物之一种以上之原料粉体之掺混制程,而将藉由该掺混制程所获得之粉体加以烧结之烧结制程。12.一种自我润滑功能滑动构件之制法,其特征为具有;在滑动时经由气相,液相,固相之至少一种反应将可自我生成之自我润滑性化合物之产物母体加以熔融之熔融制程,将藉由该熔融制程所获得之产物母体,浸渍于具有开孔之基块之浸渍制程。13.一种自我润滑功能滑动构件之制法,其特征为具有;在滑动时经由气相,液相,固相之至少一种反应将可自我生成之自我润滑性化合物之产物母体加以熔融之熔融制程,与或熔解于熔媒后,浸渗于具有开孔之基块。14.一种具有滑动部之装置,其系具有由复数个之滑动构件所构成之滑动部之装置,其特征系在滑动时,对于至少含有一个上述滑动构件中之物质使其发生化学变化,在滑动面形成具有自我润滑作用之物质。15.如申请专利范围第14项之具有滑动部之装置,其中,其具有自我润滑作用之物质为氧化物,氮化物,硫化物,硒化物,碲化物之至少一种。16.如申请专利范围第15项之具有滑动部之装置,其中,其氧化物,氮化物,硫化物,硒化物,碲化物之至少一种为,具有层状之结晶构造,链状之结晶构造,或具有裂开面之结晶构造之至少一个结晶构造之物质。17.如申请专利范围第16项之具有滑动部之装置,其中,具有层状之结晶构造,链状之结晶构造,或具有裂开面之结晶构造之至少一个结晶构造之物质为含有从Ti,Zr,Nb,V,Ta,Cr之中所选择之至少一种元素之化合物。18.如申请专利范围第14项之具有滑动部之装置,其中,上述滑动部系在氧化性环境中滑动,含在上述滑动构件中之物质为从Pb,Co,Zn之卤化物,Pb,Zn,Sn之硫化物,硒化物,碲化物,Mo之硼化物,碳化物,矽化物之中所选择之至少一种,在滑动时于滑动面形成含有于上述滑动构件中物质之氧化物。19.如申请专利范围第14项之具有滑动部之装置,其中,上述滑动部为在氮化还原性气体环境中滑动,含在上述滑动构件中之物质为从硼,氧化硼,硼砂,碳化硼中所选择之至少一种,在滑动时在滑动面形成六方晶氮化硼(h-BN)。20.如申请专利范围第14项之具有滑动部之装置,其中,含在上述滑动构件中之物质为同时含有从钨,钼,铌中所选择之至少一种,与,从硫磺,硒,碲中所选择之至少一种,而在滑动时在滑动面形成上述物质之化合物。21.一种具有滑动部之装置,系由从复数个之滑动部所构成之装置,其特征系滑动部之至少一部分浸渍于熔融金属中,同时,在滑动时,至少含有1个上述滑动构件中之物质为与上述熔融金属发生化学变化,而在滑动面,形成具有层状之结晶构造,链状之结晶构造,或具有裂开性之结晶构造之至少一个结晶构造之物质。22.如申请专利范围第21项之具有滑动部之装置,其中,具有层状之结晶构造,链状之结晶构造,或具有裂开性之结晶构造之至少1个结晶构造之物质为含有从Ti,Zr,Nb,V,Ta,Cr中所选择之至少一种元素之复合氧化物。23.如申请专利范围第21项之具有滑动部之装置,其中,熔融金属为含有Zn,Al之至少一种元素。24.一种具有滑动部之装置,其系具有从复数个之滑动构件所成之滑动部之装置,将滑动部之至少一部分浸渍于熔融金属中,同时,在滑动时至少含在一个上述滑动构件中之物质为与上述熔融金属中发生化学反应,而在滑动面,形成具有层状之结晶构造,链状之结晶构造,或具有裂开性之结晶构造之至少一种结晶构造之物质。25.一种滑动构件,其特征系在滑动时,含有至少一种上述滑动构件中之物质将发生化学变化,而在滑动面,含有形成具有层状之结晶构造,链状之结晶构造,或具有裂开性之结晶构造之至少一种结晶构造物质之产物母体。26.如申请专利范围第25项之滑动构件,其中,其产物母体为Ti,Zr,Nb,V,Ta,Cr之化合物。27.一种熔融金属电镀装置,其系藉将金属薄板经由复数辊轮连续性地浸渍于熔融金属中,而在金属薄板表面形成以该熔融金属做为主要成分之电镀层之熔融金属电镀装置,其特征为:上述熔融金属为含有Zn,Al之至少一种元素,且,上述辊轮回转时,含在上述辊轮之至少一种轴承构件中之物质发生化学变化,而在滑动界面,含有形成具有层状之结晶构造,链状之结晶构造,或具有裂开性之结晶构造之至少一种结晶构造物质之产物母体。28.一种熔融金属电镀装置,系具有以放入电镀层之主要成分之熔融金属之电镀浴槽,与在该电镀浴槽中,浸渍于该熔融金属使用,而改变被电镀金属薄板方向之下沈辊轮,与将通过该下沈辊轮之该金属薄板从单面或两面加以押压之光制辊轮所成之熔融金属电镀装置,其特征为上述支撑辊轮,由于上述金属薄板与辊轮面之摩擦力,而自行回转之构造。29.一种在表面具有电镀之金属薄板之制造装置,系具有:加热施加电镀之带状金属薄板之一个以上之炉;及藉由在熔融金属中经由复数之该金属中之辊轮将该带状之金属薄板连续性地浸渍,在该金属薄板表面形成该熔融金属做为主要成分之电镀层之熔融金属电镀装置;及搬运通过该之熔融金属电镀装置,而在表面具有电镀层之上述金属薄板之复数辊轮;及调整在表面具有电镀层之上述金属薄板之上述表面亮度之表皮辊轮,所成之表面具有电镀之金属薄板之制造装置;其特征为:上述辊轮回转时,含里上述辊轮之至少一个轴承构件中之物质发生化学变化,而在该辊轮界面,含有形成具有层状之结晶构造,链状之结晶构造,或具有裂开性之结晶构造之至少一种结晶构造物质之产物母体。图式简单说明:第一图系表示本发明之一实施例之模式图。第二图系有关本发明之试料之X光绕射图。第三图系表示有关本发明之试料之结晶构造之显微镜相片。第四图系表示有关本发明之试料之结晶构造之显微镜相片。第五图系表示有关本发明之试料之结晶构造之显微镜相片。第六图系有关本发明实施例之摩擦系数与面压之关系图。第七图系表示有关本发明之实施例之熔融金属电镀装置之概要模式图。第八图系表示有关本发明之下沈辊轮,支撑辊轮轴承部之剖面图。第九图系表示有关本发明之下沈辊轮,支撑辊轮轴承部之剖面图。第十图系有关本发明之滑动面之产物母体之面积率与摩擦系数之关系图。第十一图系有关本发明之自我润滑性化合物之面积率与摩擦系数之关系图。第十二图系表示有关包含本发明之实施例熔融镀锌制程之镀锌钢板之生产线一例之图。第十三图系有关本发明之实施例之熔融锌浴中之辊轮图。第十四图系轴承构造之概略图。第十五图系表示辊轮之连续回转时间与承受金属磨损量之关系图。第十六图(a)表示辊轮转速与承受金属磨损速度之关系图。第十六图(b)表示辊轮转速与磨擦系数之关系图。 |
