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发明名称 Plasma etch process
摘要
申请公布号 EP0596593(B1) 申请公布日期 1998.11.11
申请号 EP19930306236 申请日期 1993.08.06
申请人 ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 发明人 GUPTA, SUBHASH;CHEN, SUSAN H.
分类号 C23F4/00;H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/311 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
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