发明名称 |
直接机加工凸出结构后向反射立方隅角制品及其制造方法 |
摘要 |
一种直接机加工凸出结构后向反射立方隅角制品及其制造方法,方法包括提供适于形成后向反射表面的始初单元直接机加工基底(140)。然后,形成具有若干含有立方隅角单元的几何结构的第一立方隅角单元阵列带(142)。此带是通过基底中的至少两组平行槽所产生的。一立方隅角单元阵列带作为适于形成后向反射表面附加单元基底加以形成。切除复制件基底材料的一部分。切去部分至少形成两由在深度上为槽组所形成的立方隅角单元深度的侧壁所界定的交叉腔。 |
申请公布号 |
CN1040691C |
申请公布日期 |
1998.11.11 |
申请号 |
CN94193640.6 |
申请日期 |
1994.10.20 |
申请人 |
美国3M公司 |
发明人 |
杰拉尔德M·本森;肯尼斯L·史密斯;约翰C·凯林赫;马克E·加德纳 |
分类号 |
G02B5/124 |
主分类号 |
G02B5/124 |
代理机构 |
上海专利商标事务所 |
代理人 |
张恒康 |
主权项 |
1.一种制造至少具有两凸出结构的立方隅角制品的方法,其特征在于所述方法的工序包括:提供一单元可机加工基底;在所述单元基底上机加工一结构表面,该结构表面至少包含一由至少两组交叉槽所形成的立方隅角单元阵列;在可机加工基底(70)中产生一所述结构表面的负拷贝或负复制件;从所述负复制件中切除所述基底(70)的一第一部分以在所述结构表面中形成一第一腔(77),所述第一腔(77)平行于所述结构表面的两平行槽延伸并位于它们之间;至少切除所述基底(70)的第二部分以在所述结构表面至少形成一第二腔,所述第二腔具有近似地等于第一腔的深度;从所述负复制件中产生一正复制件,借此,所述制品包括至少两凸出结构(123,125),这些凸出结构是所述腔(77)的倒置复制件。 |
地址 |
美国明尼苏达州 |