Verfahren zum Herstellen einer supraleitenden Dünnschicht mit einer Stelle reduzierter Schichtdicke und supraleitendes Bauelement, das eine derartige supraleitende Dünnschicht enthält,申请号DE19926027172-传众专利搜索

发明名称	Verfahren zum Herstellen einer supraleitenden Dünnschicht mit einer Stelle reduzierter Schichtdicke und supraleitendes Bauelement, das eine derartige supraleitende Dünnschicht enthält
摘要
申请公布号	DE69227172(D1)	申请公布日期	1998.11.05
申请号	DE19926027172	申请日期	1992.11.25
申请人	SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD., OSAKA, JP	发明人	TANAKA, SO, C/O OSAKA WORKS OF SUMITOMO, KONOHANA-KU, OSAKA, JP;IIYAMA, MICHITOMO, C/O OSAKA WORKS OF SUMITOMO, KONOHANA-KU, OSAKA, JP
分类号	C30B29/22;C30B33/08;H01L39/14;H01L39/22;H01L39/24;(IPC1-7):H01L39/24	主分类号	C30B29/22
代理机构		代理人
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