发明名称 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR0148624(B1) 申请公布日期 1998.11.02
申请号 KR19940004755 申请日期 1994.03.11
申请人 TOSHIBA KK. 发明人 HAYASHI, DAKAO;ONISHI, YASUNOBU;SATO, KAZUO;SHIBA, KENJI;MIYAMURA, SADAKA
分类号 G03F7/004;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/039 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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