发明名称 影像投射系统(一)
摘要 一种供舞台、建筑设计及类似用途之高强度光投射装置,其包括一可控制高品质影像投射闸可提供先进视觉效果。该投射闸可选择性地散射或发射入射光,其可以一阵列散射液晶材料与红外线、紫外线减缩装置组合而制造,该减缩装置可于高强度光束中藉减少该投射闸吸收光之量,而提供一稳定热环境。额外热效率可以辅助冷却装置提供。该装置尚可以二向滤波器轮形式提供颜色控制,以形成互相配合、可调整低、高及频带宽度之滤波器,还包括饱和控制。一颜色测量反馈察觉器亦包含其中。一强度测量反馈察觉器控制一空间调变、密度可改变、涂覆反射性涂料的减光轮。一可程式「黑垫」(gobo)系统可提供黑垫之选择,定向及旋转。
申请公布号 TW344435 申请公布日期 1998.11.01
申请号 TW085216193 申请日期 1992.04.30
申请人 伐瑞莱特公司 发明人 理查W.哈顿;提莫西D.史塔赛;詹姆斯M.波恩贺斯特
分类号 F21P5/00;G02F1/13;G02F1/1335 主分类号 F21P5/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿松山区南京东路三段二四八号七楼;蔡坤财 台北巿松江路一四八号十二楼
主权项 1.一种影像投射系统,其中包含有:一供产生一非极 化光 束之高强度光束源;一光束调变系统,包含有一处 于一实 质非吸收光学环境中的光散射液晶像素可定址阵 列,该等 像素可模拟透明及非透明状态,并被定位以便调变 该光束 内发射的非极化光;一主动热控制系统,其包括一 恒温控 制液体循环系统以保障该液晶阵列免于该光束所 产生的热 ,该液体循环系统包括有一与该阵列有导热关系的 液体室 ,该液体室包括有一可挠膜,将一导热接至该阵列 可膨胀 之封闭内室与一外室分隔,液体冷却剂即环流于其 间;此 导热接触形成于该光束调变系统与该密密闭内室 间;及一 影像控制信号源,与该阵列相接以控制该等像素之 透射状 态,俾便改变该光束投射之影像。2.如申请专利范 围第1项之系统,其中至少有些该等液晶 像素含有分散于一聚合物矩阵之向列性液晶材料 。3.如申请专利范围第1项之系统,其中该热控制装 置包含 有一液体循体系统。4.如申请专利范围第1项之系 统,其中该等液晶像素含液 晶材料,由聚合物分散液晶、向列曲线对齐相位液 晶、液 晶聚合复合物,及聚合物网路液晶等选择而来。5. 如申请专利范围第1项之系统,其中该热控制系统 不需 仰赖压力空气循环,俾便达到安静操作。6.如申请 专利范围第1项之系统,其中该等液晶像素之透 明度在一范围之値内可变,提供与该等影像控制信 号相关 之灰度效果。7.如申请专利范围第1项之系统,其中 包含有:一可过滤 该光束以重覆连结产生三原色以供照亮该阵列之 原色产生 器,供控制该等液晶像素使其与该等原色照亮该阵 列同步 而产生该等原色其中之一对应的视频影像之装置, 俾便该 光束被以该等彩色衬频影像加以调变。8.如申请 专利范围第1项之系统,其中该阵列包含有一有 源矩阵与该影像控制信号源联结。9.一种影像投 射系统,其中包含有:一供产生一非极化光 束之高强度光束源;一光束调变系统,包含有一处 于一实 质非吸收光学环境中的光散射液晶像素可定址阵 列,该等 像素可模拟透明及非透明状态,并被定位以便调变 该光束 内发射的非极化光;一用以保障该液晶阵列免于该 光束所 产生之热的主动热控制系统,该系统包括界定一液 体热接 触至该阵列之一密封包封、一与该包封相通之膨 胀室、与 具有一与该包封热接触之冷却液途径的恒温控制 液体循环 系统;及一影像控制信号源,与该阵列相接以控制 该等像 素之透射状态,俾便改变该光束投射之影像。图式 简单说 明:第一图系显示本创作一些特色之一光投射器内 部的一 结构侧视图;第二图系一液晶阵列之部份结构图, 显示包 容于一聚合物矩阵中之液晶微滴的不同状态;第三 图系一 液晶(LC)投射阵列及一可吸收红外线且可导冷之液 体室总 成的一实施例结构图;第四图系可供第一、七图所 示系统 用之一可程式光散射、有源矩阵投射闸的一结构 平面图; 第五、五A图系该液晶投射阵列及液体室总成之一 实施例 的侧面结构剖视图及透视图;第六图系一侧面结构 剖视图 ,显示一液晶投射阵列及液体室总成之另一实施例 ;第七 图系一光投射机内部的一侧面结构剖视图,显示一 较佳光 学系统;第八图系一结构平面图,显示本创作之颜 色控制 系统其中一滤色器;第八A图系一结构平面图,显示 形成 本创作饱和控制系统之滤色器的点密度;第八B图 系一结 构平面图,显示本创作之空间可调变、密度可变、 且涂覆 反射性涂料的减光轮;第九A-九G图包含一组光谱发 送曲 线,显示本创作之颜色轮系统的一些特征;及第十 图系一 可程式旋转黑垫轮总成之另一实施例的一结构平 面图。
地址 美国