发明名称 An apparatus and a process for depositing semi-conductor material from the gas phaseon to a heated core of semi-conductor material
摘要
申请公布号 GB1040709(A) 申请公布日期 1966.09.01
申请号 GB19630046298 申请日期 1963.11.22
申请人 SIEMENS-SCHUCKERTWERKE AKTIENGESELLSCHAFT 发明人
分类号 C23C16/00;C30B13/20 主分类号 C23C16/00
代理机构 代理人
主权项
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