发明名称 THIN, FINE PORED METAL LAYER
摘要 <p>Die Erfindung betrifft eine Metallschicht mit offener Porosität sowie mit einer Schichtdicke von maximal 500 νm, wobei der Durchmesser der durchgehenden Poren maximal ein Zwölftel der Schichtdicke beträgt. Zur Herstellung der Metallschicht mit offener Porosität wird eine Suspension, die Metallpulver, Dispergator sowie Substanzen zur Anpassung der Viskosität aufweist, auf einen Träger schichtförmig aufgebracht, getrocknet und anschließend gesintert. Die Schichtdicke der auf den Träger aufgebrachten Suspension ist dabei so zu wählen, daß die Schichtdicke der Metallschicht nach der Sinterung wenigstens dreimal so dick wie der Pulverdurchmesser des Metallpulvers ist.</p>
申请公布号 WO1998048077(A1) 申请公布日期 1998.10.29
申请号 DE1998000594 申请日期 1998.02.27
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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