| 发明名称 | 气体处理容器 | ||
| 摘要 | 一种气体处理容器,它具有一个壳体(12、14、16),包括至少一个微粒材料层(34、36、38)以及,在至少一个气体流通孔口(18;56)的前面,有一个镂空的头部(26)盖住孔口的气体分配器(25;51),其特征在于头部(26)伸进壳体(14;16)和料层(34、36、38)之间的内部空间,离后者有一段距离,并且在孔口(18;56)对侧上有一个镂空的端壁(28)和一镂空的侧壁(30),侧壁的镂空程度大于端壁的镂空程度。 | ||
| 申请公布号 | CN1197412A | 申请公布日期 | 1998.10.28 |
| 申请号 | CN97190831.1 | 申请日期 | 1997.07.01 |
| 申请人 | 液体空气乔治洛德方法利用和研究有限公司 | 发明人 | 菲利普·安德尼;克利斯蒂昂·莫纳拉;米歇尔·波特尔 |
| 分类号 | B01J4/00;B01J8/02;B01J8/04 | 主分类号 | B01J4/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王彦斌 |
| 主权项 | 1.一种气体处理容器，它具有一个壳体(12、14、16)，包括至少一个微粒材料层(34、36、38)以及，在至少一个气体流通孔口(18；56)的前面，有一个镂空的头部(26)盖住孔口的气体分配器(25；51)，其特征在于头部(26)伸进壳体(14；16)和料层(34、36、38)之间的内部空间，离后者有一段距离，并且在孔口(18；56)对侧上有一个镂空的端壁(28)和一镂空的侧壁(30)，侧壁的镂空程度大于端壁的镂空程度。 | ||
| 地址 | 法国巴黎 | ||