| 发明名称 |
METHOD OF FABRICATING SILICON WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10289898(A) |
申请公布日期 |
1998.10.27 |
| 申请号 |
JP19970097776 |
申请日期 |
1997.04.15 |
| 申请人 |
SEIKO EPSON CORP |
发明人 |
YOTSUYA SHINICHI;YAGI HIROSHI |
| 分类号 |
H01L21/306;B81C1/00;H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/308 |
主分类号 |
H01L21/306 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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