| 发明名称 |
Reflective lithographic mask |
| 摘要 |
The invention relates to a reflective phase-shifting lithographic mask having a reflective surface comprising a plurality of areas having different refractive indices.
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| 申请公布号 |
US5827622(A) |
申请公布日期 |
1998.10.27 |
| 申请号 |
US19970884094 |
申请日期 |
1997.06.27 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
COUFAL, HANS JUERGEN;GRYGIER, ROBERT KEITH |
| 分类号 |
G03F1/00;G03F1/14;G03F7/20;(IPC1-7):G03F1/00 |
主分类号 |
G03F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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