发明名称 |
RESONANCE CHAMBER APPLICATOR FOR REMOTE PLASMA SOURCE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH10284295(A) |
申请公布日期 |
1998.10.23 |
申请号 |
JP19980052236 |
申请日期 |
1998.03.04 |
申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
GARRY L VONG;SILVESTER IRWIN;QUANG TRONG |
分类号 |
H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H05H1/46;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 |
主分类号 |
H01J37/32 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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