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发明名称 Apparatus for the low temperature etching of cold-wall CVD reactors
摘要
申请公布号 EP0857796(A3) 申请公布日期 1998.10.21
申请号 EP19980105255 申请日期 1994.07.05
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 CARLSON, DAVID;HEY, H. PETER W.;HANN, JAMES C.
分类号 H01L21/205;C23C16/44;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;(IPC1-7):C23C16/44 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
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