发明名称 光纤光栅及其制作方法
摘要 本发明涉及一种光纤光栅及其制作方法。按照此方法,为了获得足够的光致折射率变化量,掺氢过程是在紫外线照射之前完成。尤其是,该方法的掺氢过程的目标是以树脂覆盖裸光纤外表面得到的涂覆光纤为特征,此裸光纤有一芯区和一包层区。涂覆光纤暴露在预定加压状态的氢气氛下一段预定的时间之后,部分地去除树脂。紫外线照射在去除树脂的预定裸光纤区域上,从而在芯区形成反射光栅。
申请公布号 CN1196492A 申请公布日期 1998.10.21
申请号 CN97112991.6 申请日期 1997.06.10
申请人 住友电气工业株式会社 发明人 伊藤真澄;池知麻纪;榎本正
分类号 G02B6/34 主分类号 G02B6/34
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 杜日新
主权项 1.一个制作光纤光栅的方法,它包括:第一步:制备一根涂覆光纤,此涂覆光纤有:一根裸光纤,它有预定折射率的芯区和在所述芯区外表面周围的包层区,所述包层区的折射率小于所述芯区的折射率;以及覆盖所述裸光纤外表面的树脂,将所述制备的涂覆光纤暴露在预定加压状态的氢气氛下一段预定时间,从而在所述涂覆光纤中掺入氢;第二步:部分去除第一步中掺氢的所述涂覆光纤所述树脂,从而暴露出所述裸光纤预定部分的表面;以及第三步:将紫外线照射到所述裸光纤的预定暴露部分,所述裸光纤的所述树脂是在第二步中去除的,从而改变了沿着所述芯区的纵向上所述裸光纤预定暴露部分中所述芯区的折射率。
地址 日本大阪