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发明名称 Method of forming a field oxide film in a semicondutor device
摘要
申请公布号 GB9818286(D0) 申请公布日期 1998.10.14
申请号 GB19980018286 申请日期 1995.06.29
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD. 发明人
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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