发明名称 Automatic photomask and reticle inspection method and apparatus including improved defect detector and alignment sub-systems
摘要
申请公布号 US4805123(B1) 申请公布日期 1998.10.13
申请号 US19860885197 申请日期 1986.07.14
申请人 KLA INSTRUMENTS CORPORATION 发明人 SPECHT, DONALD, F.;WIHL, TIM, S.;YOUNG, SCOTT, A.;HAGER, JAMES J., JR.;LUTZKER, MATTHEW, B.
分类号 H01L21/66;G01B11/00;G01N21/88;G01N21/956;G03F1/08;G06T1/00;G06T7/00;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G06K9/68;G06K9/38 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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