| 发明名称 |
BEAM ADJUSTING METHOD FOR CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10270337(A) |
申请公布日期 |
1998.10.09 |
| 申请号 |
JP19970075825 |
申请日期 |
1997.03.27 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
NISHIMURA CHIKASUKE;OGAWA YOJI |
| 分类号 |
G03F7/20;H01J37/147;H01J37/305;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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