| 发明名称 |
SUBSTRATE WAFER WORKING DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10270373(A) |
申请公布日期 |
1998.10.09 |
| 申请号 |
JP19980089458 |
申请日期 |
1998.03.18 |
| 申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
KERSCH ALFRED DR;SCHAFBAUER THOMAS |
| 分类号 |
G01K7/02;G01K7/04;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/26;H01L21/324;(IPC1-7):H01L21/26 |
主分类号 |
G01K7/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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