| 摘要 |
<p>본 고안은 반도체 소자의 제조 방법에 관한 것으로, 특히, 리소그라피 공정시, 노광될 부분을 정확한 위치에 정렬시키기 위한 노광 장치에 관한 것이다. 본 고안의 노광 장치는 레이저 빔을 주사하는 레이저 장치; 상기 레이저 장치에서 주사된 레이저가 푸리에 변화되어 웨이퍼 상에 정렬 마크와 동일한 형태의 상을 맺게 되는 디프랙션 오브젝트; 상기 디프랙션 오프젝트의 상을 웨이퍼면 상에 맺게하는 변환렌즈; 상기 디프렉션 오브젝트의 회절 상과 동일한 형태로 제작된 정렬 마크; 상기 정렬 마크에서 반사된 광이 화상처리장치에 적당한 크기로 디프랙션 오브젝트의 상을 맺을 수 있도록 하는 축소 렌즈; 상기 축소 렌즈에 의해 축소된 디프랙션 오브 젝트의 상을 화상처리하는 ccd 카메라; 상기 레이저 장치의 안정성을 도모하기 위하여 정렬 마크에서 레이저 광이 다시 레이저 장치로 돌아갈 수 없게 하는 편극 광 분리기를 포함하는 것을 특징으로 한다.</p> |
