首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
BEAM ADJUSTMENT METHOD IN CHARGED BEAM LITHOGRAPHY DEVICE
摘要
申请公布号
JPH10261556(A)
申请公布日期
1998.09.29
申请号
JP19970064468
申请日期
1997.03.18
申请人
TOSHIBA CORP
发明人
SUNAOSHI HITOSHI
分类号
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
Travel cot or baby garment and cover article
Therapeutic agents
Device for carrying bottles,cans and like containers
Wrist braces
Light add
Tecnology and science teaching resource
Heat pump device
Residual charge elimination for a memory device
Garment hanger
Novel uses
Vapour calibration system
Mobile lift-up conveyor, vehicle-mounted lift-up conveyor, cargo loading and unloading device for a truck, and cargo loading system for a truck
Multistage ejector system
Vibration-isolation support
METODO PARA PREPARAR DODECAHIDRO-3A,6,6,9A-TETRAMETILNAFTO(2,1-B)FURANO Y NUEVOS HALOETIL DECALIN DERIVADOS.
PRODUCTO PARA LA LIMPIEZA CORPORAL Y DEL CABELLO.
Werkwijze voor het opwekken van mechanische energie en het genereren van stoom met behulp van een gasturbine.
Kabelhouder voor een strijkijzer.
Inrichting voor het in afhankelijkheid van de spoorboog begrenzen van de dwarsspeling van een wagonbovenbouw bij railvoertuigen.
Ondersteuningsinrichting voor een glastoevoerbuis.
