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发明名称
METHOD FOR DETECTING DEFECT IN SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND MANUFACTURE OF SAMPLE AS WELL AS OBSERVATION METHOD FOR DETECT
摘要
申请公布号
JPH10260138(A)
申请公布日期
1998.09.29
申请号
JP19970085625
申请日期
1997.03.19
申请人
SUMITOMO SITIX CORP
发明人
YANASE YOSHIO
分类号
G01N21/88;G01N21/93;G01N21/94;G01N21/956;G01N37/00;G01Q30/02;G01Q30/08;G01Q30/20;G01Q60/10;G01Q60/26;G01Q80/00;G01Q90/00;H01L21/66;(IPC1-7):G01N21/88
主分类号
G01N21/88
代理机构
代理人
主权项
地址
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