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发明名称 Inductively coupled plasma reactor with symmetrical parallel multiple coils having a common rf terminal
摘要
申请公布号 SG53081(A1) 申请公布日期 1998.09.28
申请号 SG19970003589 申请日期 1997.09.26
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 QIAN XUE-YU;SATO ARTHUR
分类号 H05H1/46;C23C16/50;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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