发明名称 Kryogenisches Einsäulenrektifikationssystem zur Herstellung von Stickstoffgas unter erhöhtem Druck und von hoher Reinheit
摘要
申请公布号 DE69412521(D1) 申请公布日期 1998.09.24
申请号 DE1994612521 申请日期 1994.01.20
申请人 PRAXAIR TECHNOLOGY, INC., DANBURY, CONN., US 发明人 DRAY, JAMES ROBERT, KENMORE, NEW YORK 14223, US;ROBERTS, MARK JULIAN, GRAND ISLAND, NEW YORK 14072, US;BONAQUIST, DANTE PATRICK, GRAND ISLAND, NEW YORK 14072, US;CHEUNG, HARRY, WILLIAMSVILLE, NEW YORK 14221, US;JUST, PAUL LOUIS, TONAWANDA, NEW YORK 14150, US;MIZE, JAMES BRIAN, WILLIAMSVILLE, NEW YORK 14221, US;ROYAL, JOHN HENRI, GRAND ISLAND, NEW YORK 14072, US
分类号 C01B21/04;F25J3/04;(IPC1-7):F25J3/04 主分类号 C01B21/04
代理机构 代理人
主权项
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