发明名称 | 化学增强的光刻胶 | ||
摘要 | 本发明为了提供一种化学增强的光刻胶,它可防止T-形光刻胶图形的形成并增强溶解速度对曝光的依赖性,它有良好的分辨率、聚焦和尺寸精度,用一种具有不同分子量的t-BOC保护的多羟苯乙烯聚合物的混合物作为化学增强光刻胶的基质聚合物和PAG混合在一起。该混合物的优选的分子量比率和混合比率分别为1∶5至1∶20,和10至30重量份的低分子量聚合物对100重量份的高分子量聚合物。 | ||
申请公布号 | CN1193753A | 申请公布日期 | 1998.09.23 |
申请号 | CN98100726.0 | 申请日期 | 1998.03.12 |
申请人 | 日本电气株式会社 | 发明人 | 井谷俊郎 |
分类号 | G03F7/039 | 主分类号 | G03F7/039 |
代理机构 | 中科专利代理有限责任公司 | 代理人 | 卢纪 |
主权项 | 1、化学增强的光刻胶,它包含第一种多羟苯乙烯聚合物和一种光酸发生剂,所述的第一种多羟苯乙烯聚合物具有一种其极性由酸催化剂变换的第一保护基团;其特征在于,所说的化学增强的光刻胶还包括:第二种多羟苯乙烯聚合物,所述第二种多羟苯乙烯聚合物具有一种其极性由酸催化剂变换的第二保护基团,所述第二种多羟苯乙烯聚合物的平均分子量与所述第一种多羟苯乙烯聚合物的平均分子量不同。 | ||
地址 | 日本国东京都 |