| 发明名称 |
PROCESS FOR ANISOTROPIC PLASMA ETCHING OF DIFFERENT SUBSTRATES |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0865664(A1) |
申请公布日期 |
1998.09.23 |
| 申请号 |
EP19970911131 |
申请日期 |
1997.10.06 |
| 申请人 |
ROBERT BOSCH GMBH |
发明人 |
LAERMER, FRANZ;SCHILP, ANDREA |
| 分类号 |
B81C1/00;C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/308;H01L21/321;H01L21/465;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
B81C1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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